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股票代码：002851
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主要应用在半导体生产线、微电子生产、LCD 显示、LCD 显示、线路板生产、PCB 产品等要求高精度和高效率工业项目中
产品特点 高精密、高稳定直驱结构设计 非接触式高精度光栅尺 采用高精密级直线导轨 行程、尺寸和线缆可根据客户要求定制 |
结构特点 七轴 LDI曝光机，全部采用无铁芯直线电机 直驱控制,无齿槽效应,在低速下可平滑运行(速 度波动小) 同时配备非接触式高精度光栅尺，具备非常 优秀的动态性能、 定位精度和重复定位精度 七轴 LDI曝光机选用高精度光栅位置反馈 全行程重复性小于 ±1.5um 定位精度小于 ±2.5 um 一般与高精度升降轴(Z轴)配合工作 |
定制化 可以根据客户需求配置、行程、负载、 特殊结构等进行评估定制 |
平台型号 | ZWSW-K1195-X900-2Y1350-Z20 | |||
轴系 | X轴 | Y1/Y2轴 | Z1/Z2轴 | K轴 |
行程 | 900 mm | 1350 mm | 20 mm | 1195 mm |
负载 | 120 kg | ≥55KG+Z轴重量 | ≥ 55KG | 3(侧挂) |
编码器分辨率 | 0.1um | 0.1um | 20um | 0.1 um |
最小步进 | 0.5 um | 0.5 um | 0.5 um | |
线性定位精度 | ±2.5 um | +2.5 um | ±15 um | ±2.5 um |
双向重复性 | ±1.5um | ±1.5 um | ±8 um | ±1.5 um |
水平直线度 | ±8 um | ±5 um | ±5 um | ±10 um |
垂直直线度 | ±12 um | ±12 um | ±5 um | ±10 um |
yaw | 5 arc sec | 5 arc sec | 20 arc sec | ±15 um |
pitch | 10 arc sec | 10 arc sec | X、Y方向上距离中心300mm的点,在Z轴20mm运动过程中,Z方向最大误差±30um | - |
roll | 10 arc sec | - | - | ±10 um |
yaw | ±2.5 arc sec/50mm | - | - | - |
Pitch | ±5 arc sec/50mm | - | - | - |
Y1Y2、X垂直度 | 4.1 arc sec(换算成千分表跳动10um) | - | - | - |
Y1、Y2平行度 | - | ±3μm | - | - |
最大速度 | 500 | 500 mm/s | 15 mm/s | 500 mm/s |
最大加速度 | 5000 mm/s2 | |||
±0.5um 位置阈值的整定时间 | <0.1/50mm<0.1/700mm500mm/s0.5G加速度,50000加速度,挂负载情况下 | <0.1S/1mm<0.1S/500mm | - | <0.1/50mm<0.1/700mm500mm/s,0.5G加速度,50000加加速度,挂负载情况下 |
速度稳定性 | - | <1%(50-500mm/s) | - | - |
K轴Y轴垂直度 | - | - | - | 4.1 arc sec(换算成千分表跳动10um) |
